به گزارش خبرگزاری مهر به نقل از انگجت، منابع آگاه اعلام کردند که گروهی از محققان در شنژن، اوایل امسال نمونه اولیه یک دستگاه لیتوگرافی فرابنفش شدید (Extreme Ultraviolet Lithography یا EUV) را تکمیل کرده‌اند که هم‌اکنون در حال آزمایش است. طبق گزارش‌ها، این دستگاه EUV توسط مهندسان سابق شرکت هلندی تأمین‌کننده نیمه‌رسانا، ASML، ساخته شده است.

چین قصد دارد از سال ۲۰۲۸ میلادی تراشه‌های مبتنی بر EUV را تولید کند، هرچند کارشناسان پیش‌بینی می‌کنند این هدف احتمالاً از سال ۲۰۳۰ محقق خواهد شد.

فناوری EUV یکی از پیچیده‌ترین فناوری‌ها در صنعت تراشه‌سازی است و در قلب تراشه‌های شرکت‌هایی مانند اینتل و TSMC قرار دارد. هر شرکتی که بخواهد در بازار جهانی رقابت کند، به فناوری EUV نیاز دارد. اگرچه دستگاه EUV نمونه اولیه چینی هنوز تراشه تولید نمی‌کند، اما قادر است نور فرابنفش شدید مورد نیاز برای تولید تراشه را ایجاد کند.

در صورت تأیید این گزارش، چین می‌تواند سریع‌تر از پیش‌بینی تحلیلگران کنترل فناوری EUV را در اختیار گیرد. تا کنون این فناوری عمدتاً در دست شرکت‌های غربی بوده و از سوی دولت آمریکا به‌عنوان ابزاری برای فشارهای تجاری استفاده شده است.

شی جین‌پینگ، رئیس‌جمهور چین، توانایی کشور در تولید نیمه‌رساناهای داخلی را در اولویت بالایی قرار داده است. به گفته یک منبع آگاه به رویترز، هدف نهایی چین این است که تراشه‌های پیشرفته را با ماشین‌های کاملاً ساخت داخل تولید کند و آمریکا را به‌طور کامل از زنجیره تأمین خود کنار بگذارد.